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Tipo de documento: Trabalho de Conclusão de Curso
Tipo de acceso: Acesso Aberto
Título: Estudo da influência do tratamento térmico na atividade fotocatalítica de semicondutores baseados nos óxidos de Titânio (IV) e Tungstênio (VI).
Autor: Lacerda, Verônica Prado Barbieri
Primer orientador: Patrocinio, Antonio Otavio de Toledo
Primer miembro de la banca: Marinho, Juliane Zacour
Segundo miembro de la banca: Lopes, Osmando Ferreira
Resumen: Este trabalho teve como objetivo estudar a influência do tratamento térmico nas propriedades morfológicas e fotocatalíticas do TiO2 e do WO3-TiO2, nas proporções molares de 1:4 e 1:40 (W:Ti). Sabe-se que o tratamento térmico influencia diretamente parâmetros como a fase cristalina, o grau de cristalinidade, porosidade e área superficial, os quais estão diretamente relacionados com a eficiência fotocatalítica dos materiais. Os óxidos foram obtidos pelo método sol-gel, seguido de tratamento hidrotermal. Posteriormente, os óxidos foram sinterizados em forno mufla em diferentes temperaturas e tempos de sinterização. A partir dos resultados obtidos com o TiO2, foram estabelecidas as condições de tratamento do WO3-TiO2. Os materiais foram caracterizados por difratometria de raios-X, área superficial pelo método B.E.T. e microscopia eletrônica de varredura. Para avaliar a atividade fotocatalítica dos óxidos, foram realizados ensaios de foto-oxidação de metanol sob irradiação UV-A (315-380 nm). A formação de formaldeído ao longo do tempo de irradiação foi monitorada utilizando-se o método de Nash. O óxido que obteve a melhor eficiência fotônica foi o TiO2 sinterizado a 600 °C por 30 minutos (7,55 ± 0,36 %). Em relação ao WO3-TiO2, o melhor resultado foi obtido com o compósito 1:40 sinterizado a 700 °C (1,50 ± 0,15 %). Observou-se que para o TiO2 as misturas de fase anatase-broquita e anatase-rutilo contribuíram para o bom desempenho do material, assim como o aumento da temperatura de sinterização até 600 °C. O aumento do tempo de sinterização, no entanto, diminuiu a eficiência fotônica. No WO3-TiO2, o aumento da temperatura foi prejudicial para o desempenho do material.
Abstract: This work had the aim to study the influence of thermal treatment in the morphological and photocatalytic properties of TiO2 and WO3-TiO2, in molar ratios of 1:4 and 1:40 (W:Ti). It is known that thermal treatment influences directly in parameters such as crystallinity phase and grade, porosity and surface area, which are directly related with the photocatalytic efficiency of these materials. The oxides where obtained by the sol-gel method, followed by hydrothermal treatment. After, the oxides where calcinated in an oven in different temperatures and times of calcination. The conditions of the thermal treatment for the WO3-TiO2 where stablished after the results with TiO2 where obtained. The materials where characterized by Xray diffractometry, surface area by the B.E.T. method and scanning electron microscopy. Methanol photo-oxidation tests under UV-A irradiation (315-380 nm) where run to evaluate the photocatalytic activity. The formation of formaldehyde over irradiation time was monitored using the Nash method. The oxide which had the best photonic efficiency was the TiO2 calcinated in 600 °C for 30 minutes (7,55 ± 0,36 %). Among the WO3-TiO2, the best result was obtained with the composite 1:40 calcinated in 700 °C (1,50 ± 0,15 %). It was observed that for TiO2 the mixed crystal phases anatase-broquite and anatase-rutile contributed to a good material’s performance, as well as the increase in calcination temperature till 600 ºC. The increase in calcination time, however, decreased the photonic efficiency. For WO3-TiO2, the increase in calcination temperature was prejudicial for material’s performance.
Palabras clave: TiO2
WO3-TiO2
Sol-gel
Fotocatálise
Remediação ambiental
Photocatalysis
Environmental remediation
Área (s) del CNPq: CNPQ::CIENCIAS EXATAS E DA TERRA
Idioma: por
País: Brasil
Editora: Universidade Federal de Uberlândia
Cita: LACERDA, Verônica Prado Barbieri. Estudo da influência do tratamento térmico na atividade fotocatalítica de semicondutores baseados nos óxidos de Titânio (IV) e Tungstênio (VI). 2018. 55 f. Trabalho de Conclusão de Curso (Graduação em Química Industrial) – Universidade Federal de Uberlândia, Uberlândia, 2018.
URI: https://repositorio.ufu.br/handle/123456789/24089
Fecha de defensa: 6-dic-2018
Aparece en las colecciones:TCC - Química Industrial

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